激励计划调整 - 2025年限制性股票激励对象由不超1072人调为1055人[3] - 调整因6人离职、11人有离职意向或绩效不佳[3] 激励计划授予 - 监事会同意向1055人授予126.7894万股限制性股票[7] - 授予日为2025年3月31日[7] 会议情况 - 第二届监事会第十三次会议3月31日书面传签召开[2] - 两议案表决均3票同意，无需股东大会审议[6][8]

会议信息 - 公司第二届董事会第十四次会议于2025年3月31日书面传签召开，9名董事参与表决[2] 激励计划 - 2025年限制性股票激励计划调整后激励对象为1055人，减少17人[3] - 授予日为2025年3月31日，授予价格90元/股[5] - 向1055名激励对象授予126.7894万股限制性股票[5] 议案表决 - 两项议案均7票同意，0票反对，0票弃权，2人回避表决[3][5]

文章核心观点 拓荆科技（上海）有限公司申请"背面沉积有非晶相碳膜的晶圆及其制备方法和应用"专利，该专利在半导体领域有增加传统晶圆背面沉积薄膜可选择性等优势，同时介绍了公司基本信息 [1][2] 公司信息 - 拓荆科技（上海）有限公司成立于2020年，位于上海市，以从事科技推广和应用服务业为主 [2] - 企业注册资本135253.79万人民币，实缴资本95253.78万人民币 [2] - 公司参与招投标项目19次，有商标信息1条，专利信息243条，拥有行政许可11个 [2] 专利信息 - 公司申请名为"背面沉积有非晶相碳膜的晶圆及其制备方法和应用"的专利，公开号CN 119694881 A，申请日期为2024年12月 [1] - 该专利属于半导体领域，可增加传统晶圆背面沉积薄膜的可选择性 [1] - 相同膜厚条件下，非晶相碳膜应力和翘曲与SiN相近，可实现对翘曲较大的工艺片或结构片的应力中和 [1] - 非晶相碳膜在高温下具有较好粘附力，可实现以上厚度的薄膜沉积 [1] - 晶圆背面沉积的SiN、SiO薄膜需通过(磷酸或氢氟酸)湿法去除，而非晶相碳膜可通过与等离子体激发下氧离子反应原位去除，副产物主要为二氧化碳 [1]

文章核心观点 - 拓荆科技在SEMICON China 2025展会首日召开新品发布会，发布三大产品系列新品，展示技术突破与产业布局，为中国半导体设备行业注入新活力，开启崭新篇章 [3][9] 发布会概况 - 2025年3月26日拓荆科技在SEMICON China 2025展会首日召开主题为“拓芯章·见未来”的新品发布会，吸引数百名嘉宾到场 [3] 技术研发与产品策略 - 公司依托多年技术积累从 前道薄膜设备走向3D - IC设备，2024年反应腔出货量超1000台，2025年将保持高研发投入，持续产品升级，实现从“国产替代”向“技术引领”的战略升级 [5] 战略新品情况 - ALD事业部国内ALD设备装机量和薄膜工艺覆盖率第一，新一代原子层沉积设备VS - 300T在坪效比、成本、薄膜均匀性等方面有优势 [6] - 3D - IC和先进封装事业部在键合和相关产品布局上实现国产键合领域设备装机量及键合相关工艺覆盖率第一，发布低应力熔融键合设备Dione 300F等多款新品 [6] - CVD事业部应用能力获市场及客户肯定，研发集中在提升客户生产效率，2023 - 2024年出货10种新产品，推出新平台PF - 300M达成提高厚膜产能等目标 [6] 启幕仪式 - 董事长与三位事业部负责人共同揭开新品模型帷幕，LED大屏同步呈现动态技术演示，现场氛围达到高潮 [7]

激励计划 - 公司于2025年3月4日审议通过2025年限制性股票激励计划相关议案[1] 自查情况 - 自查期为2024年9月6日至2025年3月5日，核查对象为激励计划内幕信息知情人[2] - 11名核查对象自查期买卖股票，确认无内幕交易[5] - 策划激励计划限定人员范围，未发现内幕信息泄露及违规交易[6]

会议信息 - 公司2025年第二次临时股东大会3月6日公告，3月21日14:00召开[3] - 现场会议在辽宁沈阳公司会议室召开，网络投票通过上交所系统进行[3] 参会情况 - 出席现场会议8名股东代表4260700股，占比1.5232%[6] - 网络投票170名股东代表132411386股，占比47.3356%[7] - 现场和网络投票共178名股东代表136672086股，占比48.8587%[7] 会议结果 - 审议通过《2025年限制性股票激励计划（草案）》等三项议案[9] - 会议召集、召开等均符合规定，决议合法有效[10]

证券代码：688072 证券简称：拓荆科技 公告编号：2025-014 一、 会议召开和出席情况 （一） 股东大会召开的时间：2025 年 3 月 21 日 （二） 股东大会召开的地点：辽宁省沈阳市浑南区水家 900 号拓荆科技股份有 限公司会议室 （三） 出席会议的普通股股东、特别表决权股东、恢复表决权的优先股股东及 其持有表决权数量的情况： 拓荆科技股份有限公司 2025 年第二次临时股东大会决议公告 本公司董事会及全体董事保证公告内容不存在任何虚假记载、误导性陈述或 者重大遗漏，并对其内容的真实性、准确性和完整性依法承担法律责任。 重要内容提示： 本次会议是否有被否决议案：无 | 1、出席会议的股东和代理人人数 | 178 | | --- | --- | | 普通股股东人数 | 178 | | 2、出席会议的股东所持有的表决权数量 | 135,289,677 | | 普通股股东所持有表决权数量 | 135,289,677 | | 3、出席会议的股东所持有表决权数量占公司表决权数量的比 | 48.5847 | | 例（%） | | | 普通股股东所持有表决权数量占公司表决权数量的比例（%） | 48.58 ...

会议安排 - 2025年3月21日14时召开会议，地点在辽宁沈阳公司会议室[10] - 股东及代理人13:00 - 14:00签到，发言不超5分钟[4][6] - 网络投票2025年3月21日，交易系统9:15 - 9:25等时段，互联网9:15 - 15:00[10] 激励计划 - 2025年3月4日董事会和监事会通过限制性股票激励计划相关议案[21] - 拟定《2025年限制性股票激励计划实施考核管理办法》并披露[24] - 董事会提请股东大会授权办理激励计划相关事项，期限与计划有效期一致[28][31]

证券代码：688072 证券简称：拓荆科技 公告编号：2025-013 拓荆科技股份有限公司 监事会关于公司 2025 年限制性股票激励计划激励对象名单 的公示情况说明及核查意见 本公司监事会及全体监事保证本公告内容不存在任何虚假记载、误导性陈述 或者重大遗漏，并对其内容的真实性、准确性和完整性依法承担法律责任。 拓荆科技股份有限公司（以下简称"公司"）于 2025 年 3 月 4 日召开了第 二届董事会第十三次会议及第二届监事会第十二次会议，审议通过了《关于公司 <2025 年限制性股票激励计划（草案）>及其摘要的议案》等相关议案。根据《上 市公司股权激励管理办法》（以下简称"《管理办法》"）的相关规定，公司对 2025 年限制性股票激励计划拟激励对象名单在公司内部进行了公示，公司监事 会结合公示情况对拟激励对象进行了核查，相关公示情况及核查情况如下： 一、公示情况 1、公司于 2025 年 3 月 6 日在上海证券交易所网站（www.sse.com.cn）上披 露了《2025 年限制性股票激励计划（草案）》（以下简称"《激励计划（草案）》"） 及其摘要、《2025 年限制性股票激励计划实施考核管理办法》《 ...

报告公司投资评级 - 报告给予拓荆科技 - U“买进”评级 [6][8] 报告的核心观点 - 公司发布股权激励计划，行权目标较高，体现对未来发展的信心；预计中国半导体设备产业并购 2025 年较大规模展开，公司作为国内薄膜沉积设备龙头企业极具并购价值；目前股价对应 2025、26 年 PE45 倍和 37 倍，给予买进评级 [6] 根据相关目录分别进行总结 公司基本资讯 - 产业为电子，2025 年 3 月 5 日 A 股价 175.73 元，上证指数 3341.96，股价 12 个月高/低为 216.52/101.4 元，总发行股数 27973 万股，A 股数 15525 万股，A 股市值 272.82 亿元，主要股东为国家集成电路产业投资基金股份有限公司（持股 19.77%），每股净值 19.12 元，股价/账面净值 9.19，一个月、三个月、一年股价涨跌分别为 21.5%、 - 4.4%、24.1% [2] 产品组合 - 半导体设备占比 86.2%，配套材料及服务占比 13.8% [4] 股权激励与业绩情况 - 公司向 1072 位核心员工（占全体员工 70%）授予 127 万股（占总股本 0.45%）股票激励，行权价格 90 元/股，较目前股价折让 49%；2025 年营收目标 49.9 亿元，同比增长 21.7%，净利润 10.6 亿元，同比增长 54%；2026 年营收目标 60 亿元较 2024 年增长 46%，净利润 12.6 亿元，较 2024 年增长 83% [8] - 2024 年公司实现营收 41 亿元，同比增 52%，净利润 6.9 亿元，同比增 4%，扣非后净利润 3.6 亿元，同比增 14%；4Q24 实现营收 18.3 亿元，同比增 82%，环比增 81%，净利润 4.2 亿元，同比增 7%，环比增 193%，扣非后净利润 2.9 亿元，同比增 113%，环比增 539%；2024 年累计出货超 1000 个设备反应腔 [8] 行业并购情况 - 得益于国产替代推进，本土半导体设备企业快速成长，预计未来中国半导体设备厂商加大并购力度，涂胶显影大厂沈阳芯源微已公告停牌筹划股权变更，公司作为国内薄膜沉积设备龙头企业，在 PECVD 设备领域领先，极具并购价值 [8] 盈利预测 - 预计公司 2025、2026 年净利润 10.8 亿元和 13.3 亿元，同比增长 57%和 23%，EPS 分别为 3.87 元和 4.76 元 [8] 财务数据 |项目|2022|2023|2024F|2025F|2026F| | ---- | ---- | ---- | ---- | ---- | ---- | |纯利（百万元）|369|664|688|1081|1331| |同比增减（％）|438.1|80.2|3.6|57.1|23.1| |每股盈余（元）|1.32|2.37|2.46|3.87|4.76| |同比增减（％）|438.1|80.2|3.6|57.1|23.1| |市盈率(P/E)（X）|132.8|73.7|71.1|45.3|36.8| |股利（元）|0.48|0.35|0.35|0.45|0.50| |股息率（％）|0.27|0.20|0.20|0.26|0.29|[10] 合并损益表（百万元） |项目|2022|2023|2024F|2025F|2026F| | ---- | ---- | ---- | ---- | ---- | ---- | |营业收入|1706|2706|4103|5146|6337| |经营成本|865|1334|2249|2730|3381| |营业税金及附加|17|3|5|6|8| |销售费用|192|222|313|371|445| |管理费用|81|172|240|275|320| |财务费用|-18|-15|10|-3|-3| |资产减值损失|0|10|10|10|10| |投资收益|6|-20|-20|-20|-20| |营业利润|357|709|678|1140|1403| |营业外收入|0|0|0|0|0| |营业外支出|0|10|1|2|2| |利润总额|364|699|677|1138|1401| |所得税|0|35|20|57|70| |少数股东损益|-4|0|-32|0|0| |归属于母公司所有者的净利润|369|664|688|1081|1331|[12] 合并资产负债表（百万元） |项目|2022|2023|2024F|2025F|2026F| | ---- | ---- | ---- | ---- | ---- | ---- | |货币资金|3827|2676|3362|3966|488| |应收账款|262|530|487|424|348| |存货|2297|4556|4556|4328|3895| |流动资产合计|6820|8457|9624|10923|12365| |长期股权投资|0|228|240|252|264| |固定资产|382|613|999|1698|3005| |在建工程|11|117|82|45|18| |非流动资产合计|493|1512|1875|2326|2884| |资产总计|7313|9969|11499|13249|15249| |流动负债合计|2947|2982|3429|8915|24517| |非流动负债合计|659|2396|5223|12013|29072| |负债合计|3605|5378|6249|6918|7587| |少数股东权益|-4|-2|-34|-34|-34| |股东权益合计|3712|4594|5250|6331|7662| |负债及股东权益合计|7313|9969|11499|13249|15249|[13] 合并现金流量表（百万元） |项目|2022|2023|2024F|2025F|2026F| | ---- | ---- | ---- | ---- | ---- | ---- | |经营活动产生的现金流量净额|248|-1657|587|862|737| |投资活动产生的现金流量净额|-151|-836|-482|-434|-4186| |筹资活动产生的现金流量净额|2790|1339|581|176|-29| |现金及现金等价物净增加额|2886|-1154|686|604|-3478|[14]