公司背景 - 太紫微公司由华中科技大学武汉光电国家研究中心团队创立，立足于关键光刻胶底层技术研发，在电子化学品领域深耕二十余载[1] 产品特点 - 太紫微公司推出的T150 A-光刻胶产品通过半导体工艺量产验证，实现配方全自主设计，表现出极限分辨率达120nm，工艺宽容度更大，稳定性更高[1] 市场竞争 - 太紫微公司的KrF光刻胶产品对标的UV1610产品在市场上属于常用胶，国内厂商如北京科华、徐州博康等也有能力生产[1] 行业现状 - 我国半导体光刻胶国产化率仍较低，KrF、ArF光刻胶对外依赖严重，国产化率仅在1%水平，但国内公司如彤程新材、华懋科技、晶瑞电材等已有KrF光刻胶产品布局[2] 技术挑战 - 光刻胶原材料、配方是关键因素，国内企业在光刻胶原材料方面存在一定的进口依赖，国内相关光刻胶原材料基本都从日本进口，技术突破和配方稳定性是需要突破的难点[3]